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專利名稱 可線性蒸鍍之蒸鍍設備噴頭EVAPORATING DEVICE WITH LINEAR SPRAY HEAD
創作型式 發明
專利證號 TWI479040
國別 中華民國
獲證日期 2012/12/05
專利摘要 一種可線性蒸鍍之蒸鍍設備噴頭，其係透過一樞接結構樞設在一蒸鍍設備內所設之鍍槽的開口處，在一底座之中央部位開設有一第一開口，且該底座一側設有一第一樞接結構，該第一樞接結構與設在該鍍槽一側之第二樞接結構相樞接，將二導流板之一端分別與該第一開口之內側連接，形成該導流板與該底座連接，且該等導流板之內側分別設有一導槽，於該等導流板相對應連接時，以使該等導流之兩端所形成之第二開口、第三開口能與該第一開口相對應和貫通，而該等導槽內側面分別設有複數蒸道，再將二加熱板分別設在該等導流板之外圍，且該等加熱板之外圍繞設有一加熱元件，最後將二絕緣板分別設在該等加熱板之外圍，與該等導流板將該等加熱板包覆在內，以進行絕緣，以達到使蒸鍍材料汽化後的分子能均勻鍍膜在該基板表面之目的。

IPC國際分類號

C23C001424
聯絡人 王淳右
電話 #329655
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