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專利名稱 一種在多晶氮化鋁基板作高深寬比圖案的方法
創作型式 發明
專利證號 TWI594371
國別 中華民國
獲證日期 2016/10/27
專利摘要 一種在多晶氮化鋁基板作高深寬比圖案的方法，步驟包括：(A)提供一氮化鋁基板，於該氮化鋁基板製作一阻障層；(B)使用一能量束對該阻障層進行蝕刻，於該阻障層形成至少一凹部；(C)對該基板進行電漿蝕刻，以將該凹部深入該氮化鋁基板之中；(D)將該阻障層剝除，得到具有至少一高深寬比圖案之氮化鋁基板。藉此，使用一能量束在阻障層上直接製作圖案，再利用電漿蝕刻的方式蝕刻氮化鋁基板，可快速地、有效地製作一具有高深寬比圖案之氮化鋁基板。

IPC國際分類號

H01L0021306
聯絡人 王淳右
電話 #329655
EMAIL f1143frank@ncsist.org.tw