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專利名稱 線性蒸鍍裝置
創作型式 新型
專利證號 TWM543876
國別 中華民國
獲證日期 2016/12/30
專利摘要 本創作係提供一種線性蒸鍍裝置，供以針對一真空環境內之基材進行鍍膜製程，其具有至少一坩鍋及一加熱腔體，加熱腔體設於坩鍋之一側且具有一腔體加熱器，坩鍋供以容置一鍍材，其特徵在於，坩鍋具有一嘴口及一本體，嘴口由本體之一開口端緣向外延伸形成，且嘴口靠抵於加熱腔體內部，其中，坩鍋之嘴口側與本體側皆為受熱狀態，而形成兩段式加熱，藉此以消除鍍材之蒸氣凝結現象，提高鍍材使用率並提供穩定均勻之鍍材蒸氣，以製備具高均勻性之薄膜。

IPC國際分類號

C23C001654
聯絡人 王淳右
電話 #329655
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