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專利名稱 局部三維影像成形系統及其方法
創作型式 發明
專利證號 TWI669105
國別 中華民國
獲證日期 2017/08/18
專利摘要 本發明係提供一種局部三維影像成形系統及其方法，以比對第一參考軸向及第二參考軸向所產生之第一參考影像及第二參考影像，進行X光影像產生模組座標位置移動，藉以達到物件X光局部三維影像攝影，及進一步達到降低X光曝光劑使用之目的。

IPC國際分類號

A61B000603
聯絡人 王淳右
電話 #329655
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