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專利名稱 一種用於量測坩堝內部熱場分布之裝置
創作型式 發明
專利證號 TWI648525
國別 中華民國
獲證日期 2017/12/18
專利摘要 一種用於量測坩堝內部熱場分布之裝置，包括：一坩堝，其包含一上蓋、一本體、一成長室及一料源區；一保溫材，設置於該坩堝外部；一可移動加熱元件，係用以加熱該坩堝；複數具有絕緣耐高溫材料包覆之熱電偶，藉由該上蓋上的複數孔洞，設置於該上蓋內部，用以量測坩堝內部熱場分布。藉此，利用具有絕緣耐高溫材料包覆之熱電偶，可有效量測及調整坩堝內部溫度分布達到長晶之最佳溫度分布。

IPC國際分類號

C23C001424
聯絡人 王淳右
電話 #329655
EMAIL f1253frank@ncsist.org.tw