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專利名稱 腔體壓力量測方法
創作型式 發明
專利證號 TWI601942
國別 中華民國
獲證日期 2015/11/27
專利摘要 本發明係提出一種腔體壓力量測方法，係包括：透過一金屬膜片將一腔體空間區分為待測壓力氣室及參考壓力氣室；於該待測壓力氣室中導入待測氣體，並於該參考壓力氣室中導入參考壓力氣體；利用一位移量測計量測並輸出該金屬膜片的一位移值，該位移值係因該待測壓力氣室與該參考壓力氣室之間的氣壓差而產生；以一控制單元根據該位移值，來控制與該參考壓力氣室相連接之一氣體調節模組以調整該參考壓力氣室中之氣壓，使調整後的參考壓力氣室中之氣壓與該待測壓力氣室中之氣壓相等後，量測調整後的參考壓力氣室中之氣壓的壓力值。

IPC國際分類號

G01L001904
聯絡人 王淳右
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