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::: 可授權專利

可提升光均勻度之中空奈米結構二次光學透鏡與其製作方法

創作型式：
發明
專利證號：
JP6875331
發明人：
阮建龍、黃士哲、郭養國
國別：
日本
獲證日期：
2021/04/26
專利摘要：
#N/A
IPC國際分類號：
#N/A