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::: 研發成果

論文

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【年度】98 年研發成果
【項目】 論文
【領域】 軍品釋商科專
【類別】 電資通光
計畫名稱 通訊與光電領域軍品釋商第二期計畫
論文名稱 反應性磁控濺鍍氮化鈦鎢薄膜之製程及磨耗行為研究
論文類型 研討會
發表處 中國材料科學學會2009年年會
發表人 許建榮、鄭銘章、何焱騰、侯光煦
發表日期 98/11/26
國家 國內
內容摘要 本研究係以反應性磁控濺鍍法，在玻璃基板上成長氮化鈦鎢薄膜之製程及鍍膜的耐磨行為研究。重點在於探討控制不同濺鍍參數(如改變氮氣流量或功率等)，對鍍膜在機械及磨潤特徵上的影響；實驗並以光學顯微鏡及掃描式電子顯微鏡觀察薄膜的微觀組織及磨耗表面的磨損型態。研究顯示當濺鍍功率為700W，隨著氮氣分壓的增加，薄膜的沉積厚度及硬度均呈現下降趨勢，其中氮氣分壓為5 mbar，氬氣分壓為5 mbar所成長的氮化鈦鎢薄膜具有最高的硬度，達19.33Gpa，且有最佳的抗磨耗特性。此一鍍膜以奈米薄膜測試儀執行刮痕試驗及摩擦係數分析，發現以刮擦速率10μm/ sec，最大荷重25mN，1500μm刮痕長度為量測條件，其臨界荷重值達 16.32 mN時，摩擦係數表現最低，約在0.06~0.08之間。另外，經往復式磨潤試驗機磨潤試驗後，薄膜磨痕顯微觀察顯示，造成氮化鈦鎢薄膜破損的主要磨耗機制包含犁耕、黏著與局部脫落；硬度是此類薄膜抗磨耗的主要因素，亦即薄膜硬度愈硬，抗磨耗性也愈佳。