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::: 研發成果

專利權

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【年度】101 年研發成果
【項目】 專利權
【領域】 關鍵技術科專
【類別】 電資通光
計畫名稱 光電半導體元件與系統應用關鍵計畫
專利名稱 以單一光罩多重浸入曝光產生微結構之製法
發明人 楊錫杭,張家華,葉茂勳
國家 中華民國
性質 發明
技術摘要 本發明係有關一種以單一光罩多重浸入曝光產生微結構之製法,其兼具可以單一光罩製作不同的微結構、製程簡單且尺寸穩定、可縮短製程並降低製作成本、與應用範圍廣泛等優點及功效。
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