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::: 研發成果

專利權

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【年度】102 年研發成果
【項目】 專利權
【領域】 關鍵技術科專
【類別】 電資通光
計畫名稱 光電半導體元件與系統應用關鍵計畫
專利名稱 具吸收層之半導體裝置及其製造方法
發明人 林家慶
國家 中華民國
性質 發明
技術摘要 本發明係有關於一種具吸收層之半導體裝置及其製造方法,該具吸收層之半導體裝置包含一基板,該基板上設置一第一型半導體層,於該第一型半導體層之上設置一漸進型吸收層,該漸進型吸收層更包含AlxInyGa1-x-yN(x≧0,y≧0,1≧x+y≧0)之組成成分,該漸進型吸收層上更設置一第二型半導體層;又,該第一型半導體層上設置一第一導電層,以及該第二型半導體層上更設置一第二導電層。其中,藉由該漸進型吸收層所包含之AlxInyGa1-x-yN(x≧0,y≧0,1≧x+y≧0),得以擴大吸收波長之範圍,以提供可同時感測可見光與不可見光的光偵測器。
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