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::: 研發成果

論文

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【年度】100 年研發成果
【項目】 論文
【領域】 關鍵技術科專
【類別】 機電運輸
計畫名稱 薄膜太陽能製程設備及模組關鍵技術研究發展三年計畫
論文名稱 以電子迴旋共振化學氣相沉積系統製備奈米晶矽薄膜及其特性研究
論文類型 研討會
發表處 桃園縣綠能科技產業創新研發論壇
發表人 連水養、許嘉巡、黃永全
發表日期 100/11/23
國家 國內
內容摘要 本論文使用電子迴旋共振化學氣相沉積系統(Electron Cyclotron Resonance Chemical Vapor Deposition, ECRCVD)製備奈米晶矽薄膜，主要調變參數為電漿功率(600~1200 W)及氫稀釋比例(RH = H2 / SiH4 + H2 = 91%~ 95%)。藉由UV-VIS-NIR光譜儀（UV-VIS-NIR spectroscopy）、拉曼光譜儀（Raman spectroscopy）、X光繞射儀（X-Ray Diffraction, XRD）、場發射電子顯微鏡（Field Emission Scanning Electron Microscopy, FE-SEM）、分別進行光學、電性、結晶性、及結構分析。在本研究結果顯示，ECRCVD系統在特定的氫稀釋比例區間內可得到具奈米尺寸晶粒之矽薄膜，而薄膜呈現明顯結晶特性約為氫稀釋比為93%時。