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::: 技術處科專

可移轉技術

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民國111年
民國112年
民國113年
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【年度】102 年研發成果
【科專】 關鍵技術科專
【領域】 電資通光
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年度

102
計畫名稱 光電半導體元件與系統應用關鍵計畫
執行單位 材料暨光電研究所
技術名稱光斑解角器技術
技術現況敘述利用雷射光斑絕對定位技術，開發絕對定位光斑解角器雛型裝置，事先記憶解角器母板所產生之光斑影像，並標定此光斑影像角度，待轉動光斑解角器母板，讀取新位置之光斑影像並與資料庫比對，得到新位置之絕對角度座標。、
技術規格光斑影像比對特徵區域 128 x 128 pixels。 利用感測像素NCC比對定位精度：3.45um 。利用光斑特徵點比對定位精度： 0.5um 。NCC定位法，解角器定位精度：  5 光斑特徵點定位法，解角器定位精度： 1 。""
技術成熟度實驗室階段
技術可應用範圍工具機市場
潛力預估精密多軸加工機之4、5軸，精密車、銑床之分度頭。
所需軟硬體設備干涉儀裝置、定位分析軟體及個人電腦
需具備之專業人才光電、電子相關背景
聯絡人員黃宜裕
電子信箱csist_mrdc@csnet.gov.tw
電話03-4712201
傳真03-4711024
參考網址